10月18日下午，力物学院光电物理系高娟副教授在院报告厅为18级光电物理班和光电专业研究生作了题为《原子层沉积技术应用及发展趋势》的学术报告。2018级光电物理班全体学生和全体研究生100余人聆听了报告会。
报告会现场（摄影：陈昌兆）
报告会上，高娟首先向大家介绍了原子层沉积技术的发展历史、基本工作原理和优点。接着详细介绍了原子层沉积技术在晶体管材料制备方面、储能器件方面及催化方面的应用。最后介绍了原子沉积技术的发展趋势和前景展望。原子层沉积技术，是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。原子层沉积技术起源于上世纪六七十年代，随着半导体工业的兴起，为适应各种制备需求的商品化ALD仪器的研制成功，无论在基础研究还是实际应用方面，尤其原子层沉积技术都受到人们越来越多的关注。
此次学术报告开阔了同学们的知识和眼界，提高了同学们学习的兴趣，为今后的学习增加了动力。
（撰稿、核稿：力物学院 高娟、圣宗强）
